X射線電鍍厚度分析儀

X射線電鍍鍍層厚度檢測(cè)儀是一款基于*X射線熒光光譜技術(shù)的高精度檢測(cè)設(shè)備，專為電鍍行業(yè)鍍層厚度測(cè)量而設(shè)計(jì)，在保障產(chǎn)品質(zhì)量、控制生產(chǎn)成本等方面發(fā)揮著關(guān)鍵作用。

工作原理

該設(shè)備利用X射線管發(fā)射出高能X射線，照射到被測(cè)電鍍樣品表面。鍍層中的原子受到X射線激發(fā)后

，會(huì)釋放出具有特定能量的次級(jí)X射線，即熒光X射線。探測(cè)器會(huì)精準(zhǔn)捕捉這些熒光X射線，并將其轉(zhuǎn)化為電信號(hào)。通過(guò)專業(yè)的分析軟件對(duì)這些信號(hào)進(jìn)行處理和分析，依據(jù)熒光X射線的強(qiáng)度與鍍層厚度之間的定量關(guān)系，從而精確計(jì)算出鍍層的厚度。

核心優(yōu)勢(shì)

• 高精度測(cè)量：具備好的測(cè)量精度，能夠精確到微米甚至納米級(jí)別，可滿足不同行業(yè)對(duì)鍍層厚度的嚴(yán)苛要求，確保產(chǎn)品質(zhì)量的一致性和穩(wěn)定性。

• 無(wú)損檢測(cè)：檢測(cè)過(guò)程無(wú)需破壞樣品，不會(huì)對(duì)電鍍產(chǎn)品造成任何損傷，這對(duì)于一些高價(jià)值、工件尤為重要，大大降低了檢測(cè)成本和風(fēng)險(xiǎn)。

• 快速高效：檢測(cè)速度極快，能夠在短時(shí)間內(nèi)完成對(duì)樣品的測(cè)量，并即時(shí)顯示測(cè)量結(jié)果，有效提高了生產(chǎn)效率，減少了檢測(cè)環(huán)節(jié)對(duì)生產(chǎn)流程的干擾。

• 多元素分析：不僅可以測(cè)量鍍層厚度，還能同時(shí)分析鍍層中的元素組成和含量，為電鍍工藝的優(yōu)化提供全面的數(shù)據(jù)支持。

應(yīng)用領(lǐng)域

廣泛應(yīng)用于電子、汽車(chē)、航空航天、五金制品等多個(gè)行業(yè)。在電子行業(yè)，用于檢測(cè)印刷電路板、連接器等電子元件的鍍層厚度；在汽車(chē)行業(yè)，可對(duì)汽車(chē)零部件的鍍鋅、鍍鉻層進(jìn)行質(zhì)量控制；在航空航天領(lǐng)域，對(duì)于保障飛行器關(guān)鍵部件的耐腐蝕性和性能穩(wěn)定性至關(guān)重要。

設(shè)備組成

主要由X射線管、探測(cè)器、樣品臺(tái)、控制系統(tǒng)和分析軟件等部分組成。各部分協(xié)同工作，確保設(shè)備能夠穩(wěn)定、準(zhǔn)確地完成鍍層厚度檢測(cè)任務(wù)。

以下是X熒光光譜儀測(cè)試電鍍鍍層的儀器詳細(xì)介紹：

鍍層檢測(cè)：

常見(jiàn)金屬鍍層有：

單層厚度范圍：

金鍍層0－8um,

鉻鍍層0-15um,

其余一般為0-30um以內(nèi)，

可最小測(cè)量達(dá)0.001um。

多層厚度范圍:

Au/Ni/Cu : Au分析厚度:0-8um      Ni分析厚度:0-30um

Sn/Ni/Cu: Sn分析厚度:0-30um      Ni分析厚度:0-30um

Cr/Ni/Fe: Cr分析厚度0-15um       Ni分析厚度:0-30um

鍍層層數(shù)為1-6層

鍍層精度相對(duì)差值一般<5%。

鍍層成分含量：Sn-Pb合金成分分析；Zn-Ni合金成分分析。

鍍層分析優(yōu)勢(shì)：分析PCB金手指最小尺寸可達(dá)0.2mm

單層分析精度，以Ni舉例：（相對(duì)差值）

元素成分分析:

鍍液分析，目前常見(jiàn)鍍液元素分析有：金、銀、錫、銅、鎳、鉻、鋅。

ROHS 和無(wú)鹵檢測(cè)，高性能SDD探測(cè)器可以檢測(cè)無(wú)鹵,實(shí)現(xiàn)鍍層與環(huán)保一機(jī)多用。

金屬成分分析，在檢測(cè)ROHS同時(shí)可檢測(cè)金屬中其他各元素成分含量。

檢測(cè)精度：

Cr，Cd，Hg，Cu, Zn, Fe, Ni, Pb, Mn, W, Au, Ag, Sn等重金屬

檢測(cè)限達(dá)1ppm。

對(duì)這些金屬測(cè)試分析穩(wěn)定的讀取允許差值本儀器已達(dá)到下列標(biāo)準(zhǔn)：

A. 檢測(cè)含量大于5%的元素穩(wěn)定的測(cè)試讀取相對(duì)差值小于1%

B. 檢測(cè)含量在0.5～5%的元素穩(wěn)定的測(cè)試讀取相對(duì)差值小于2%

C. 檢測(cè)含量在0.1～0.5%的元素穩(wěn)定的測(cè)試讀取相對(duì)差值小于5%

D. 檢測(cè)含量低于0.1%的元素測(cè)試讀取相對(duì)差值變化率小于10%

測(cè)量精度:

1）精度(單層)：

                             測(cè)厚儀的檢測(cè)精度表

   測(cè)試方法: 在相同的操作條件下，對(duì)同一標(biāo)準(zhǔn)樣板進(jìn)行5次檢測(cè)，檢測(cè)到的平均數(shù)據(jù)與標(biāo)樣板的實(shí)際數(shù)據(jù)作比較。檢測(cè)精度為檢測(cè)平均值與標(biāo)準(zhǔn)樣片實(shí)際值之差（平均誤差）

2）兩層及以上：

 兩層及以上的首層精度符合單層的測(cè)試結(jié)果，但是第二層以上比較復(fù)雜，要根據(jù)上面一層的厚度來(lái)決定。在一層厚度小于2um時(shí)，一層和二層的測(cè)試精度基本符合單層的精度，參照如下的測(cè)試報(bào)告 一層金標(biāo)樣厚度0.101um，第二層鎳的標(biāo)樣厚度為4.52um。

  在 一層厚度在2～5um時(shí)會(huì)大大降低第二層的和第三層的測(cè)試精度，第二層的誤差率會(huì)在5～10%，第三層的誤差率小于15%。

重復(fù)性:

保證重復(fù)性值:≤±5%

   重復(fù)性的檢測(cè)應(yīng)在儀器校準(zhǔn)后: 在相同的操作條件下,使用相同的檢測(cè)樣板做連續(xù)重復(fù)檢測(cè)，連續(xù)測(cè)量必須在同一檢測(cè)點(diǎn)位置使用一同樣片間隔60秒,測(cè)量一共進(jìn)行10次,每次測(cè)量值與10次平均值進(jìn)行對(duì)比。

重復(fù)性=平均誤差÷平均值×100* %.

報(bào)告打印：

可以PDF，Excel格式輸出報(bào)告，歷史數(shù)據(jù)查詢方便

安全使用,維護(hù)與保養(yǎng)

由于儀器非常精密，未經(jīng)允許情況請(qǐng)不要打開(kāi)儀器外殼，不要對(duì)X射線源和探測(cè)器進(jìn)行改變，由用戶自身原因造成儀器損壞本公司將不負(fù)責(zé)任。

儀器安裝一定要平穩(wěn)，儀器后面離墻距離不得小于30厘米，必須使用標(biāo)準(zhǔn)的220V交流電，電壓不穩(wěn)情況要配備穩(wěn)壓電源，插座必須接地良好，由用戶電源不合乎要求造成損失由用戶負(fù)責(zé)。

請(qǐng)不要用濕的手觸摸電源部分，帶水的手也不要碰儀器外殼以免發(fā)生觸電。

進(jìn)行測(cè)量時(shí)，因?yàn)楦唠妷毫髦?/span>X射線源，儀器運(yùn)行時(shí)，不要嘗試打開(kāi)或觸摸蓋子。由于高電壓源必須通過(guò)自動(dòng)運(yùn)行或者遵循用戶指南中止。

儀器環(huán)境要求：儀器使用環(huán)境需清潔，溫度適宜15℃~30℃，濕度≤80%,電源：AC: 220V ±5V。

以上細(xì)節(jié)均有可能造成無(wú)法預(yù)測(cè)后果，買(mǎi)方應(yīng)予以基本遵守。

X射線電鍍厚度分析儀